<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<rss version="2.0">
<channel>
<title>Мочалов А. И.  -Портал SamoLit.com</title>
<link>https://samolit.com/authors/21574/</link>
<description>СамоЛит - сайт независимых авторов</description>
<lastBuildDate></lastBuildDate>
<image>
<url>https://samolit.com/gif/samolit_logo.png</url>
<link>https://samolit.com</link>
<title>Портал SamoLit.com</title>
</image>
<item>
<title>А. И. Мочалов &amp;laquo;Металлизация ультрабольших интегральных схем. Учебное пособие&amp;raquo; - Книги на SamoLit.com</title>
<link>https://samolit.com/books/68731/</link>
<description><![CDATA[ Приводится классификация элементов многоуровневой системы металлизации интегральных схем, рассматриваются особенности создания выпрямляющих и омических контактов в составе ИС. Освещаются вопросы взаимодействия тонких слоев металлов с кремниевой подложкой и образования силицидов. Рассматриваются различные варианты формирования медных межсоединений и приводятся сведения о современных технологиях создания многоуровневых систем металлизации УБИС с медными межсоединениями.  Для студентов и аспирантов, специализирующихся в области микроэлектроники и полупроводниковых приборов. Может быть использовано специалистами, работающими в данной области. ]]></description>
<author>А. И. Мочалов</author>
<pubDate>Tue, 30 Jun 2015 15:10:00 +0000</pubDate>
</item><item>
<title>А. И. Мочалов &amp;laquo;Процессы плазменного травления в микро– и нанотехнологиях. Учебное пособие&amp;raquo; - Книги на SamoLit.com</title>
<link>https://samolit.com/books/68823/</link>
<description><![CDATA[ В свете современного развития нанотехнологии и микромеханики рассмотрены процессы и системы вакуумно-плазменного травления, находящие широкое применение в производстве современных ультрабольших интегральных схем, изделий микроэлектромеханических систем и наносистем. Проанализированы способы обеспечения вакуумно-технических требований к проведению этих процессов, приведены методы контроля и диагностики, позволяющие достаточно глубоко понять характер протекающих процессов с целью соответствующей оптимизации технологии и оборудования.  Для студентов вузов, изучающих процессы микро– и наноэлектроники, а также аспирантов, инженеров и научных работников, занимающихся вопросами технологии интегральных схем и микромеханики. ]]></description>
<author>А. И. Мочалов</author>
<pubDate>Tue, 30 Jun 2015 15:10:00 +0000</pubDate>
</item>
</channel>
</rss>